貴金屬濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。

要求更高的純度，具有優良的抗腐蝕、導電導熱性、耐熱沖擊性強、熔流點穩定等特點。

彌散強化鉑材料具有比普通鉑材料更好的高溫強度、抗蠕變能力。在替代普通鉑材料后，能夠節約鉑族金屬資源，有效提高鉑金坩堝的使用溫度和延長使用壽命，增加玻璃產品的產量以及成品率；使用溫度可達到1600℃以上，是高精尖光學玻璃熔煉用鉑金裝置的必備材料。

穩定批量生產符合GB/T1598-2010標準的 S、R、B型熱電偶絲。滿足標準熱電偶、工業級熱電偶用絲要求。擁有先進的貴金屬熱電偶制造工藝和裝備；有高精度熱電偶檢測實驗室（采用定點法檢測熱電偶電動勢）。