濺射靶材
貴金屬濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。
- 性能指標：
現已加工過產品厚度在2.6~6mm的靶材產品，可根據客戶要求生產不同規格的產品，可保證產品純度≥4N，產品內部無缺陷，表面光潔無明顯缺陷及夾雜。
- 應用領域：
應用范圍涉及通信、汽車、計算機及便攜式電器、工業、航天、5G、家電等各種領域。
